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2021天津大学813半导体物理与器件专业课考试大纲

时间:2020-09-16 来源:天津大学

八月已至,而每年的7月到9月便是全国各高校公布研究生考研大纲的时间,考研大纲对于即将考研的考生复习来说具有重要的指导意义,为了能够让广大考生清晰了解到自己的复习方向,以提高复习效率,也方便考生能及时了解到2021考研最新的考试方向;为此,学府考研特意为大家梳理了“2021天津大学813半导体物理与器件专业课考试大纲”相关内容,希望对广大考生的复习备考有所帮助。

一、考试的总体要求 

本课程为本专业主干专业基础课,要求考生掌握半导体物理的基本概念、p-n结、MOS结构、 双极晶体管、MOS晶体管等基本原理和应用。

二、考试的内容及比例

(一)考试内容要点: 

第一部分:(50%)

1、半导体能带结构、半导体有效质量、空穴、杂质能级;

2、热平衡状态下半导体载流子的统计分布,本征半导体和杂质半导体的载流子浓度,简并 半导体和重掺杂效应; 

3、半导体的导电性:载流子的漂移运动、迁移率、散射、强电场效应、热载流子的概念, 半导体电阻率与温度、杂质浓度的关系,体内负微分电导; 

4、非平衡载流子:非平衡载流子的产生、复合、寿命、扩散长度、准费米能级,爱因斯坦 关系,一维稳定扩散,光激发载流子衰减;

5、p-n结、MOS结构:平衡与非平衡p-n结特点及其能带图,pn结理想和非理想I-V特性,p-n 结电容概念与击穿机制,p-n结隧道效应、肖特基势垒二极管; 

6、MOS结构表面电场效应,理想与实际MOS结构C-V特性,MOS系统的性质(固定电荷、 可动离子、界面态对C-V特性的影响),表面电场对p-n结特性的影响;

第二部分:(50%)

7、双极晶体管的基本结构、原理,少数子分布,低频电流增益和非理想效应;

8、双极晶体管的等效电路模型、频率特性和开关特性;

9、MOSFET的基本结构、原理,阈值电压,电流电压关系,击穿特性

10、MOSFET的小信号模型和频率特性;

11、MOSFET的非理想特性:亚阈值特性、沟道长度调制效应、短沟道效应和;

12、结型场效应晶体管的结构和基本工作原理;

13、光器件与功率器件的原理、特点与应用。

(二)比例: 两部分考试内容各占50%。 

三、试卷题型及比例 

1、概念与问答题:40%;

2、论述题:30%;

3、计算与推导题:20%;

4、实验与综合题:10%。 

四、考试形式及时间

考试形式均为笔试。考试时间为3小时(满分150)。 

五、参考书目

半导体物理学,(第七版),刘恩科、朱秉升、罗晋生编著,电子工业出版社。 半导体物理与器件,(第四版),赵毅强、姚素英等译,电子工业出版社。 晶体管原理与设计,陈星弼 张庆中等, 电子工业出版社。

以上是学府考研为考生整理的“2021年天津大学813半导体物理与器件专业课考试大纲”的相关内容,考研不是一件容易的事情,但是梦想并非遥不可及,正确的考试大纲能让备考事半功倍,学府小编祝各位考生梦想成真!了解更多专业课考试信息请查看考研大纲栏目!

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